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离子辅助轰击能量从400eV增加到800eV时薄膜的结构发生了显著变化,断裂韧度和硬度均大幅度提高。
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通过rf等离子体沉积所制得的DLC膜具有好的热稳定性,其热传导率为2.1&2.4W/cm.deg。
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基底直流自偏压的提高能增强离子轰击效应和增加氧原子/氧离子密度,因而是决定刻蚀速率的一个关键因素。
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结果表明:在相同的轰击能量(400eV)下,铜含量对薄膜结构和硬度的影响不明显,但是铜的加入有利于提高薄膜的断裂韧度;
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Effect of Ion Bombardment Energy on the Properties of Diamond like Carbon Film
离子辅助轰击能量对类金刚石薄膜性能的影响
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应用低能离子束辅助磁控溅射(IBAMS)沉积铬-铜-氮薄膜,研究了铜含量和轰击能量对薄膜结构、硬度和断裂韧度的影响。
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Theoretical Approach of Influence of Ion Bombardment on Forming Energy of Diamond Nucleus
离子轰击对金刚石核形成能影响的理论探讨
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